ក្រុមស្រាវជ្រាវរបស់អ្នកស្រាវជ្រាវ Yang Liang នៅវិទ្យាស្ថាន Suzhou សម្រាប់ការសិក្សាកម្រិតខ្ពស់នៅសាកលវិទ្យាល័យវិទ្យាសាស្រ្ត និងបច្ចេកវិទ្យានៃប្រទេសចិន បានបង្កើតវិធីសាស្រ្តថ្មីមួយសម្រាប់ការផលិតលោហៈអុកស៊ីដ semiconductor laser micro-nano ដែលដឹងពីការបោះពុម្ពឡាស៊ែរនៃរចនាសម្ព័ន្ធ ZnO semiconductor ជាមួយនឹងភាពជាក់លាក់ submicron និងរួមបញ្ចូលគ្នា។ វាជាមួយនឹងការបោះពុម្ពឡាស៊ែរដែក ជាលើកដំបូងបានផ្ទៀងផ្ទាត់ការសរសេរដោយផ្ទាល់ឡាស៊ែររួមបញ្ចូលគ្នានៃសមាសធាតុមីក្រូអេឡិចត្រូនិច និងសៀគ្វីដូចជា diodes, triodes, memristors និង encryption circuits ដូច្នេះការពង្រីកសេណារីយ៉ូនៃកម្មវិធីនៃ laser micro-nano processing ទៅកាន់វិស័យមីក្រូអេឡិចត្រូនិច នៅក្នុង គ្រឿងអេឡិចត្រូនិចដែលអាចបត់បែនបាន ឧបករណ៍ចាប់សញ្ញាកម្រិតខ្ពស់ MEMS ឆ្លាតវៃ និងផ្នែកផ្សេងទៀតមានទស្សនវិស័យកម្មវិធីសំខាន់ៗ។លទ្ធផលស្រាវជ្រាវនេះត្រូវបានបោះពុម្ពផ្សាយនៅក្នុង "Nature Communications" ក្រោមចំណងជើងថា "Laser Printed Microelectronics"។
អេឡិចត្រូនិកបោះពុម្ព គឺជាបច្ចេកវិទ្យាដែលកំពុងរីកចម្រើនដែលប្រើវិធីសាស្ត្របោះពុម្ពដើម្បីផលិតផលិតផលអេឡិចត្រូនិក។វាបំពេញតាមលក្ខណៈនៃភាពបត់បែន និងលក្ខណៈបុគ្គលនៃផលិតផលអេឡិចត្រូនិកជំនាន់ថ្មី ហើយនឹងនាំមកនូវបដិវត្តន៍បច្ចេកវិទ្យាថ្មីដល់ឧស្សាហកម្មមីក្រូអេឡិចត្រូនិច។ក្នុងរយៈពេល 20 ឆ្នាំកន្លងមកនេះ ការបោះពុម្ពទឹកថ្នាំ ការផ្ទេរដោយឡាស៊ែរ (LIFT) ឬបច្ចេកទេសបោះពុម្ពផ្សេងទៀតបានបោះជំហានយ៉ាងអស្ចារ្យ ដើម្បីអនុញ្ញាតឱ្យផលិតឧបករណ៍មីក្រូអេឡិចត្រូនិចសរីរាង្គ និងអសរីរាង្គដែលមានមុខងារដោយមិនចាំបាច់មានបរិស្ថានបន្ទប់ស្អាត។ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយ ទំហំលក្ខណៈពិសេសធម្មតានៃវិធីសាស្ត្របោះពុម្ពខាងលើ ជាធម្មតាស្ថិតនៅលើលំដាប់រាប់សិបមីក្រូ ហើយជារឿយៗត្រូវការដំណើរការក្រោយដំណើរការដែលមានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ ឬពឹងផ្អែកលើការបញ្ចូលគ្នានៃដំណើរការជាច្រើន ដើម្បីសម្រេចបាននូវដំណើរការឧបករណ៍មុខងារ។បច្ចេកវិជ្ជាកែច្នៃឡាស៊ែរមីក្រូណាណូប្រើប្រាស់អន្តរកម្មមិនមែនលីនេអ៊ែររវាងជីពចរឡាស៊ែរ និងសម្ភារៈ ហើយអាចសម្រេចបាននូវរចនាសម្ព័ន្ធមុខងារស្មុគស្មាញ និងការផលិតឧបករណ៍បន្ថែមដែលពិបាកសម្រេចបានដោយវិធីសាស្ត្រប្រពៃណីជាមួយនឹងភាពជាក់លាក់ <100 nm ។ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយ ភាគច្រើននៃរចនាសម្ព័ន្ធដែលធ្វើពីឡាស៊ែរមីក្រូណាណូបច្ចុប្បន្នគឺជាវត្ថុធាតុ polymer តែមួយ ឬសម្ភារៈលោហៈ។កង្វះវិធីសាស្រ្តសរសេរដោយផ្ទាល់ឡាស៊ែរសម្រាប់សម្ភារៈ semiconductor ក៏ធ្វើឱ្យមានការលំបាកក្នុងការពង្រីកការអនុវត្តបច្ចេកវិទ្យាឡាស៊ែរមីក្រូណាណូទៅកាន់វិស័យឧបករណ៍មីក្រូអេឡិចត្រូនិច។
នៅក្នុងនិក្ខេបបទនេះ អ្នកស្រាវជ្រាវ Yang Liang សហការជាមួយអ្នកស្រាវជ្រាវនៅប្រទេសអាឡឺម៉ង់ និងអូស្ត្រាលី បានបង្កើតការបោះពុម្ពឡាស៊ែរប្រកបដោយភាពច្នៃប្រឌិតជាបច្ចេកវិទ្យាបោះពុម្ពសម្រាប់ឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិចដែលមានមុខងារ សម្រេចបាន semiconductor (ZnO) និង conductor (ការបោះពុម្ពឡាស៊ែរសមាសធាតុនៃសម្ភារៈផ្សេងៗដូចជា Pt និង Ag) ។ (រូបភាពទី 1) និងមិនតម្រូវឱ្យមានជំហានដំណើរការក្រោយដំណើរការដែលមានសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ទាល់តែសោះ ហើយទំហំមុខងារអប្បបរមាគឺ <1 µm។របកគំហើញនេះធ្វើឱ្យវាអាចប្ដូរតាមបំណងនូវការរចនា និងការបោះពុម្ពនៃ conductors, semiconductors និងសូម្បីតែប្លង់នៃសម្ភារៈអ៊ីសូឡង់យោងទៅតាមមុខងាររបស់ microelectronic devices ដែលធ្វើអោយប្រសើរឡើងយ៉ាងខ្លាំងនូវភាពត្រឹមត្រូវ ភាពបត់បែន និងការគ្រប់គ្រងនៃឧបករណ៍ microelectronic បោះពុម្ព។ផ្អែកលើមូលដ្ឋាននេះ ក្រុមស្រាវជ្រាវសម្រេចបានជោគជ័យលើការសរសេរដោយផ្ទាល់ឡាស៊ែររួមបញ្ចូលគ្នានៃ diodes, memristors និងសៀគ្វីអ៊ីនគ្រីបដែលមិនអាចបន្តពូជបាន (រូបភាពទី 2) ។បច្ចេកវិទ្យានេះគឺឆបគ្នាជាមួយនឹងការបោះពុម្ព inkjet ប្រពៃណី និងបច្ចេកវិទ្យាផ្សេងទៀត ហើយត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងពង្រីកដល់ការបោះពុម្ពសម្ភារៈអុកស៊ីដលោហៈប្រភេទ P និង N-type ផ្សេងៗ ដោយផ្តល់នូវវិធីសាស្រ្តថ្មីជាប្រព័ន្ធសម្រាប់ដំណើរការនៃទ្រង់ទ្រាយធំស្មុគស្មាញ។ ឧបករណ៍មីក្រូអេឡិចត្រូនិចដែលមានមុខងារបីវិមាត្រ។
និក្ខេបបទ៖ https://www.nature.com/articles/s41467-023-36722-7
ពេលវេលាបង្ហោះ៖ 09-09-2023